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VTC-50A旋转涂膜机供电体例拔取了电机部门与控制部门差异利用独立电源的方式,调速体例拔取了抗干扰性高的单片机进行控制,使得转数在高达1000-8000RPM界线内都出格平稳。本机启动飞快、转数平稳,不妨确保膜层厚度的平均性与*性。另外,在安装结构上,选择了减震步伐,使得运转时噪音低。该设备操作简单、清算便利,体积小巧,因而该设备被广泛应用于各大专院校及科研院所傍边。
VTC-100真空旋转涂膜机具有操作单一、整理便利,体积小巧等优点,主要应用于各大专院校、科研院所的测试室中进行薄膜的生成过程。设备标配三个差别巨细的真空吸盘,可遵循样品尺寸差别选取差别的真空吸盘。工作时使用真空盘吸附的方式样品固定在载样盘上,该设备使用两段措施控制速率。启动涂膜机将设备转数设置在一定的转数鸿沟内,在此转数鸿沟内设置的注胶光阴对样品进行注胶,注
VTC-200真空旋转涂膜机/匀胶机主要应用于大专院校、科研院所的测试室中的薄膜酿成。本机使用高速旋转使粘滞系数较大的胶体、溶液等原料平均的涂覆在样件外貌。
VTC-200P真空旋转涂膜机适用于半导体、晶体、光盘、制版等外貌涂覆工艺。本机可用于强酸、强碱性涂覆溶液的涂膜制备。VTC-200P真空旋转涂膜机腔体不可抽真空,工作时利用真空盘吸附的方式样品固定在载样盘上,该设备可蓄积一十二组步伐,每组步伐包含六个运行阶段。区别运行阶段设备转数区别,使设备缓慢升迁速度*限速度,有利于薄膜资料在样品外貌平均成膜,且不会过多白搭,节约资料。腔室的上盖不妨对样品进
VTC-100PA真空旋转涂膜机适用于半导体、晶体、光盘、制版等外观涂覆工艺。本机可用于强酸、强碱性涂覆溶液的涂膜制备。设备标配两个不同大小的真空吸盘,可服从样品尺寸不同采取不同的真空吸盘。工作时使用真空盘吸附的方式将样品固定在载样盘上,该设备可积蓄一十二组步伐,每组步伐包含六个运行阶段。不同运行阶段设备转数不同,使设备提升速率*限速率,有利于薄膜资料在样品外观