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混气系统二路质子GSL-2Z是用于控制一种或两种的气体流经真空密封的管式炉，这种气体控制系统安装在搬动架内，管式炉可以放在搬动架上面，气体控制系统的前面板上有控制并展现气体流量的调节阀，可以用于CVD系统及退火炉，用来考究气体环境对材料的影响，在半导体和集成电路物业、特种材料学科、化学物业、煤油物业、医药、环保、真空等多种领域的科研和生产中有着重要的作用，广泛应用于电子工艺设备，如扩散、氧化、外。

混气体系三路质子GSL-3Z是用于控制一种到三种的气体流经真空密封的管式炉，这种气体控制体系安装在移动架内，管式炉可以放在移动架上面，气体控制体系的前面板上有控制并呈现气体流量的调节阀，可以用于CVD体系及退火炉，用来考究气体环境对原料的影响，在半导体和集成电路家当、特种原料学科、化学家当、石油家当、医药、环保、真空等多种领域的科研和生产中有着重要的作用，广泛应用于电子工艺设备，如扩散、氧化、外延

混气体系四路质子GSL-4Z是用于控制一种到四种的气体流经真空密封的管式炉，这种气体控制体系安装在挪动转移架内，管式炉能够放在挪动转移架上面，气体控制体系的前面板上有控制并展现气体流量的调节阀，能够用于CVD体系及退火炉，用来查究气体环境对材料的影响，在半导体和集成电路产业、特种材料学科、化学产业、火油产业、医药、环保、真空等多种领域的科研和生产中有着重要的功效，广泛应用于电子工艺设备，如扩散、氧化、外延

小型两通道供气系统CGM-2F是一种紧凑型双通道微量气体混合供气系统，输入的两种分歧气体通过调节压力和流量，输出一种较正确的混合性气体，可用以小型管式炉、手套箱、等离子清洗机、小型PECVD系统。

多路浮子控制供气体系GSL-3F合用于控制一种到三种气体的通入，管式炉可能置于其上，可用于CVD体系及退火炉，可用研究气体情况对原料的影响。

精密氮气产生器DFN-500是一种小型高纯度气体产生器，它爆发气体的速度可来到500ml/min，且气体纯度99.99%，是化学和材料实验室的梦想设备。