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GSL-1100X-SPC-16C溅射蒸镀膜仪配备了热蒸发附件，具有溅射和蒸发两种功能。不单没关系用等离子溅射的方式镀金属膜，没关系用蒸发的方式得到碳或其他金属单质的薄膜。本机可能知足扫描电子显微镜样品的制备和非导体原料测试电极的制作，也没关系用于原料研究中万般原料本能机能的测试。

OTF-1200X-RTP-II近距离挥发镀膜炉是一款挥发管式炉，专门用于PVD或CSS法制作薄膜；其炉管外径为11″，炉管内载样盘可放置3″ 的圆形或2″×2″的方形基片；加热元件为两组红外灯管，区别安装在腔体顶端和底部，升温速率高达20℃/s ；温控体例拔取PID30段步伐化控制，控温精度为±1℃，并且仪器面板上带有RS485接口，若相貌内配有控温软件，可升温步伐和曲线导出。

GSL-1800X-ZF2挥发镀膜仪主要应用于大专院校、科研机构、企业尝试室及微小产品进行真空镀膜等真空处理的工艺考究、榜样试制、操作培训和出产。

GSL-1800X-ZF4挥发镀膜仪是一款高真空的挥发镀膜仪，适合蒸镀对氧敏感的金属膜和小分子的有机物。本机设有四个蒸镀加热舟，每个加热舟都可独立进行蒸镀，加热舟上方有一个可旋转挡板，当此中一个加热舟进行蒸镀时挡板其余三个钨舟盖住，以防蒸镀资料之间彼此污染。若更改部分派置可兑现对有机资料的挥发镀膜，可餍足发光器件及有机太阳能电池方面的考究要求，是一款镀膜成效理想

GSL-1100X-SPC-15E-LD小型蒸镀仪可对样品进行镀碳办理，可办理的样品直径可达50mm，真空度可来到10-2torr，相符用于实验室对小样品进行表面的蒸碳镀膜运用

GSL-1700X-SPC-2小型步调控温挥发镀膜仪可设定步调，并正确控制温度200ºC-1500ºC，Z大可蒸镀直径2“的薄膜样品，样品台可旋转，以获得更平均的薄膜。可制备各样金属薄膜和有机物薄膜，广泛用于电极的制备和有机物发亮LED。