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切磨抛备件、耗材
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刚玉研磨微粉具有硬度大,切削力强,耐磨损等特点,因而被广泛应用于多样原料的研磨抛光傍边,主要用于非金属原料的研磨如晶体、陶瓷、玻璃、宝石等,依据研磨要求的区别选用的碳化硅颗粒度巨细有所区别。
碳化硅研磨微粉适于UNIPOL系列研磨抛光机的研磨使用。
碳化硼研磨微粉适于UNIPOL系列研磨抛光机的研磨使用。
金刚石微粉适于UNIPOL系列研磨抛光机的研磨使用。
氧化铈抛光微粉适于UNIPOL系列研磨抛光机的研磨运用,主要用于玻璃的抛光。
悬浮抛光液包括金刚石悬浮抛光液、二氧化硅悬浮抛光液、氧化铝悬浮抛光液。金刚石悬浮抛光液合用于氧化镁、氧化锆、铌酸锂、钛酸锶、钽酸锂及多样有色、黑色金属的精抛。二氧化硅悬浮抛光液合用于砷化镓、磷化镓、单晶硅片、陶瓷、黑色金属及多样有色金属的精抛。主要用于透明陶瓷质料的抛光,也可用于其余质料的抛光,抛光过程中依据被抛光质料的不同选用适合的抛光液进行抛光,悬浮抛光液以液态地势存在,可平均漫衍
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