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VTC-50A旋转涂膜机供电体例选取了电机部门与控制部门运用独立电源的方式，调速体例则选取了抗干扰性高的单片机进行控制，使得转数在高达1000-8000RPM界限内格外稳定。本机启动、转数稳定，可以确保膜层厚度的平均性与*性。此外，在安装组织上，采用了减震步调，使得运转时噪音低。该设备操作单一、清理方便，体积小巧，因此该设备被广泛应用于各大专院校及科研院所当中。

VTC-100真空旋转涂膜机具有操作单一、清理便利，体积小巧等优点，主要应用于各大专院校、科研院所的测试室中进行薄膜的天生过程。设备标配三个分歧大小的真空吸盘，可遵守样品尺寸分歧采取分歧的真空吸盘。工作时运用真空盘吸附的方式样品固定在载样盘上，该设备运用两段程序控制速度。首先启动涂膜机将设备转数设置在的转数界线内，在此转数界线内设置的注胶时间对样品进行注胶，注

VTC-200真空旋转涂膜机/匀胶机主要应用于大专院校、科研院所的测试室中的薄膜变成。本机使用高速旋转使粘滞系数较大的胶体、溶液等资料均匀的涂覆在样件外观。

VTC-200P真空旋转涂膜机适用于半导体、晶体、光盘、制版等外观涂覆工艺。本机可用于强酸、强碱性涂覆溶液的涂膜制备。VTC-200P真空旋转涂膜机腔体不成抽真空，工作时运用真空盘吸附的方式样品固定在载样盘上，该设备可积蓄一十二组程序，每组程序包含六个运行阶段。分歧运行阶段设备转数分歧，使设备缓慢提升速度*限速度，有利于薄膜原料在样品外观均匀成膜，且不会过多徒劳，节省原料。腔室的上盖可以对样品进

VTC-100PA真空旋转涂膜机适用于半导体、晶体、光盘、制版等外表涂覆工艺。本机可用于强酸、强碱性涂覆溶液的涂膜制备。设备标配两个区别巨细的真空吸盘，可遵循样品尺寸区别选择区别的真空吸盘。工作时使用真空盘吸附的方式样品固定在载样盘上，该设备可储存一十二组步骤，每组步骤包含六个运行阶段。区别运行阶段设备转数区别，使设备升迁速率*限速率，有利于薄膜原料在样品外表

微型吸盘与VTC-100配用，是对微小样片的固定而设计。选用优质塑胶制作而成，具有操作便利，吸附稳固的优点。