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混气体例二路质子GSL-2Z是用于控制一种或两种的气体流经真空密封的管式炉，这种气体控制体例安装在移动架内，管式炉不妨放在移动架上面，气体控制体例的前面板上有控制并再现气体流量的调节阀，不妨用于CVD体例及退火炉，用来研究气体环境对质料的影响，在半导体和集成电路家当、特种质料学科、化学家当、煤油家当、医药、环保、真空等多种领域的科研和出产中有着重要的功用，广泛应用于电子工艺设备，如扩散、氧化、外。

混气编制三路质子GSL-3Z是用于控制一种到三种的气体流经真空密封的管式炉，这种气体控制编制安装在搬动架内，管式炉可以放在搬动架上面，气体控制编制的前面板上有控制并呈现气体流量的调节阀，可以用于CVD编制及退火炉，用来考究气体环境对资料的影响，在半导体和集成电路家当、特种资料学科、化学家当、煤油家当、医药、环保、真空等多种领域的科研和生产中有着重要的功效，广泛应用于电子工艺设备，如扩散、氧化、外延

混气系统四路质子GSL-4Z是用于控制一种到四种的气体流经真空密封的管式炉，这种气体控制系统安装在移动架内，管式炉能够放在移动架上面，气体控制系统的前面板上有控制并再现气体流量的调节阀，能够用于CVD系统及退火炉，用来研究气体处境对质料的影响，在半导体和集成电路家产、特种质料学科、化学家产、火油家产、医药、环保、真空等多种领域的科研和生产中有着重要的功效，广泛应用于电子工艺设备，如扩散、氧化、外延

小型两通道供气体例CGM-2F是一种紧凑型双通道微量气体混合供气体例，输入的两种不同气体通过调节压力和流量，输出一种较正确的混合性气体，可用以小型管式炉、手套箱、等离子清洗机、小型PECVD体例。

多路浮子控制供气体系GSL-3F合用于控制一种到三种气体的通入，管式炉没关系置于其上，可用于CVD体系及退火炉，可用考究气体处境对原料的影响。

精密氮气发作器DFN-500是一种小型高纯度气体发作器，它产生气体的速率可到达500ml/min，且气体纯度99.99%，是化学和质料实验室的理想设备。