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EQ-500SP打针泵属于促成式打针泵，注液速率可在边界内进行调节，可根据试验需求分歧设置分歧的注液速率，满足分歧试验要求的必要。打针器的容积分歧，装液量有所分歧，该设备标配20ml打针器。

HVC-SKJ真空腔体可用作于晶体滋长炉炉腔，可用于搭建其他真空体系。

HVC-SS高真空腔体用于自行搭建尝试真空系统，如等离子溅射、CVD或ALD等尝试，同时可看成高真空积贮箱。

2英寸高真空磁控溅射头HVMSS-SPC-2可安装直径为2“的靶材，合用靶材种类较广，如金属/绝缘靶或磁性/非磁性靶材。配装有环形NdFeB永磁体在溅射头上，以保证溅射镀膜的效率和平均性。可与DC或RF电源配合利用。

1英寸高真空磁控溅射头HVMSS-SPC-1-LD可安装直径为1“的靶材。可与直流、脉冲直流和射频电源相成婚，以是可溅射千般靶材。且选择高真空的结构设计，可提高镀膜质量。

100W小型手动成家型射频电源RF-100-LD频率为13.56MHz，专门与本司1“的磁控溅射头配用，可搭建成一套较廉价的溅射镀膜编制，用于制作非导电薄膜。